AURUNA® 5500 EF đặc biệt phù hợp cho quá trình điện tạo hình. Dung dịch điện phân này không chứa asen và tạo ra các lớp vàng dày, cứng và bán sáng. Sản phẩm chủ yếu...
Dung dịch điện phân không chứa asen cho trang sức rỗng vàng nguyên chất
AURUNA® 5500 EF đặc biệt phù hợp cho quá trình điện tạo hình. Dung dịch điện phân này không chứa asen và tạo ra các lớp vàng dày, cứng và bán sáng. Sản phẩm chủ yếu được sử dụng để sản xuất trang sức rỗng chất lượng cao với độ dày lớp mạ từ 150 đến 200 micromet. Các khuôn có thể làm từ sáp hoặc kim loại. Độ cứng tuyệt vời lên đến 180 HV và độ tinh khiết hơn 99,9% đảm bảo sự hài lòng của khách hàng, vì trang sức rỗng có độ bền vượt trội trong quá trình sử dụng. Sản phẩm dễ dàng đánh bóng, có chất lượng bề mặt tốt và có tính hàn cao.
AURUNA® 5500 EF cũng lý tưởng khi mạ lớp vàng nguyên chất dày lên các kim loại quý hoặc không quý khác. Các kết hợp sáng tạo cho phép tạo ra những thiết kế hoàn toàn mới.
Đặc điểm của chất điện phân
Loại chất điện phân: | Trung tính |
Hàm lượng kim loại: | 16 (12 - 20) g/l Au |
Giá trị pH: | 5.5 (5.0 - 6.0) |
Nhiệt độ hoạt động: | 40 (35 - 45) °C |
Mật độ dòng điện: | 0.5 A/dm² |
Tốc độ mạ: | Khoảng 0.3 μm/phút ở 0.5 A/dm² |
Tốc độ lắng đọng: | Khoảng 110 mg/Aphút |
Vật liệu cực dương: | MMO (loại PLATINODE® 187 SO) |
Hiệu suất dòng điện: | Khoảng 90% |
Đặc điểm của lớp mạ
Lớp mạ: | Vàng mịn |
Karat | 24 karat |
Độ tinh khiết: | 99.9% khối lượng Au |
Màu sắc của lớp mạ: | Vàng |
Độ sáng: | Bán sáng |
Độ cứng: | Khoảng 180 HV |
Độ dày tối đa của lớp mạ: | Vài trăm μm |
Khối lượng riêng của lớp mạ: | Khoảng 19.0 g/cm³ |
Ưu điểm
- Dung dịch điện phân vàng nguyên chất 24 ct cho điện tạo hình
- Phù hợp với khuôn sáp và kim loại
- Độ dày lớp mạ từ 150 đến 200 micromet
- Độ cứng cao lên đến 180 HV với độ tinh khiết 99,9%
Ứng dụng
- Điện tạo hình
- Trang sức rỗng
- Trang sức cao cấp