AURUNA® 5400 là dung dịch điện phân có tính axit yếu, tạo ra các lớp mạ vàng cứng màu vàng sáng đồng đều. Hệ thống chất tạo sáng được cân bằng mới của dung dịch điện phân cho phép vận hành trong một phạm...
Dùng để Mạ Các Lớp Mạ Sáng Đồng Đều
AURUNA® 5400 là dung dịch điện phân có tính axit yếu, tạo ra các lớp mạ vàng cứng màu vàng sáng đồng đều. Hệ thống chất tạo sáng được cân bằng mới của dung dịch điện phân cho phép vận hành trong một phạm vi mật độ dòng điện rất rộng và đồng thời cho phép nội dung vàng biến đổi. Nhờ vào việc sử dụng các thành phần hóa học đặc biệt, AURUNA® 5400 phù hợp cho cả mạ giá và mạ trống.
Các lớp mạ được tạo ra có đặc điểm là độ rỗng thấp và khả năng chống mài mòn tăng cường so với các lớp mạ được tạo ra trong AURUNA® 539. Hơn nữa, các tiếp điểm được mạ bằng AURUNA® 5400 thể hiện điện trở tiếp xúc thấp và ổn định theo thời gian, cũng như khả năng hàn tuyệt vời. Các lớp mạ lên đến 10 μm có thể được tạo ra mà không có vết nứt trong dung dịch điện phân này.
Đặc điểm của chất điện phân
Loại chất điện phân: | Axit yếu |
Hàm lượng kim loại: | 8 (0.5 - 12) g/l Au |
Giá trị pH: | 4.2 (3.8 - 4.6) |
Nhiệt độ hoạt động: | 50 (48 - 52) °C |
Mật độ dòng điện: | 2.5 (1 - 5) A/dm² |
Tốc độ mạ: | 0.1 - 1.0 μm/phút |
Vật liệu cực dương: | MMO (loại PLATINODE® 167 hoặc 177) |
Đặc điểm của lớp phủ
Lớp mạ: | Vàng-cobalt |
Thành phần hợp kim: | 99.7% khối lượng Au, 0.3% khối lượng Co |
Màu sắc của lớp mạ: | Vàng |
Độ sáng: | Sáng |
Độ cứng của lớp mạ: | 150 - 220 HV |
Độ dày tối đa của lớp mạ: | Không có vết nứt lên đến 10 μm |
Khối lượng riêng của lớp mạ: | Khoảng 17 g/cm³ |
Phân loại | Loại I-II, Mã C-D (tương đương với IC-IID theo MIL-G-45204C) |
Khả năng hàn | ZCT < 0.2 s |
Ưu điểm
- Phạm vi mật độ dòng điện hoạt động rất rộng
- Dùng cho cả ứng dụng kỹ thuật và trang trí
- Khả năng chống ăn mòn và mài mòn cao
- Điện trở tiếp xúc thấp và ổn định
- Phân loại theo ASTM B 488-01: Loại I - II, cấp C - D
Ứng dụng
- Chốt tiếp xúc, lò xo tiếp xúc, phích cắm tiếp xúc
- Vật liệu tiếp xúc
- Vòng trượt